xaker

Инженеры поднимают тост за смерть закона Мура

  • воскресенье, 23 марта 2014 г. в 03:10:32
http://www.xakep.ru/post/62243/

В последние недели появилось несколько новостей, которые указывают на глубинные проблемы в полупроводниковой отрасли, пишет ExtremeTech. Эксперты давно говорили, что закон Мура не вечен, и в конце концов уменьшение размеров транзисторов дойдет до предела, установленного законами природы. Судя по всему, это и мы и наблюдаем сейчас.

Машина ASML для литографии в жестком ультрафиолете

Один из тревожных сигналов — приостановка перехода на 450-миллиметровые полупроводниковые пластины с литографией в жестком ультрафиолете (EUV, extreme ultraviolet lithography), разработанной ASML. Полтора года назад крупнейшие игроки отрасли TSMC, Intel и Samsung заявили о совместном плане внедрения EUV. Это была очень важная новость, которая могла двинуть всю индустрию вперед и позволить перейти на техпроцесс 14 нм. Но в декабре ASML объявила о приостановке проекта. Ходят слухи, что конвейер для 450-миллиметровых пластин на заводе Intel Fab D1X тоже пока не устанавливают, как и на заводе Fab 42 в Аризоне.

Говорят, что проблема с EUV имеет технический характер. В последние годы никто не смог найти способ подведения достаточной энергомощности к аппаратам EUV, что требуется для массового производства. Исключительно высокая стоимость оборудования для производства 450-миллиметровых пластин тоже не прибавляет оптимизма, ведь эта технология изначально задумывалась для того, чтобы снизить издержки на производстве микросхем, по сравнению с дорогим техпроцессом DTP (double patterning).

Если нет достаточной мощности для установок жесткой литографии, то переход на полупроводниковые пластины 450 мм не имеет смысла.

На конференции SPIE Advanced Lithography 2014 группа инженеров, посвятивших свою жизнь расширению границ закона Мура, в шутку подняла тост за его смерть.